Computer superveloci con la fotonica al silicio

Un gruppo di ricercatori del Regno Unito ha realizzato il primo laser al mondo su un substrato di silicio. Secondo gli scienziati di tre atenei (Cardiff University, University College London e University of Sheffield), la scoperta rappresenta il “Santo Graal” delle fotonica, in quanto il laser potrebbe portare allo sviluppo di connessioni ultraveloci tra processori e sistemi elettronici, rivoluzionando interi settori, dalle comunicazioni alla generazione di energia.

Il silicio viene utilizzato oggi per produrre i semiconduttori integrati in ogni dispositivo elettronico. Ma con l’aumentare della complessità e della velocità dei device sono iniziati a comparire diversi problemi legati ai limiti fisici delle tradizionali interconnessioni elettriche. La soluzione migliore sarebbe quella di usare la luce, combinando il silicio con un laser semiconduttore. Questo risultato, finora impossibile da ottenere, è stato raggiunto dai ricercatori facendo “crescere” il laser direttamente sul substrato di silicio.

Il laser in questione opera ad una lunghezza d’onda di 1.300 nanometri ad una temperatura di 120 gradi e può funzionare ininterrottamente per 100.000 ore (oltre 11 anni). Non è possibile al momento valutare l’impatto futuro di questa scoperta, ma si tratta sicuramente di un importante passo verso la cosiddetta fotonica al silicio.

Le possibili applicazioni delle connessioni ottiche sono infinite e potrebbero completamente trasformare interi settori industriali, non solo quelli strettamente correlati ai dispositivi elettronici di uso comune.