Le future generazioni di iPhone potrebbero dire addio al top notch, introdotto da Apple con iPhone X. È quanto sostiene Ming-Chi Kuo, analista sempre molto affidabile sul conto della mela morsicata, in una nota consegnata nelle ultime ore agli investitori. Il gruppo di Cupertino starebbe infatti sviluppando un sistema Face ID di ridottissime dimensioni, da includere direttamente sul bordo superiore del device, affinché lo schermo non debba essere sacrificato.
Secondo quanto riferito da Ming-Chi Kuo, così come già accennato, Apple starebbe sviluppando una tecnologia per le ottiche TrueDepth, adatta all’incorporazione in spazi di ridotte dimensioni. Un sistema pensato per ridurre, o addirittura eliminare, il top notch della linea iPhone: l’obiettivo di Cupertino è infatti quello di raggiungere una perfetta simmetria dello schermo. Il primo device dotato della nuova versione di TrueDepth potrebbe giungere sul mercato nel 2020.
Non è però tutto, poiché un’ulteriore indiscrezione giunge da un analista di Credit Suisse, riportato dal China Times. Secondo l’esperto, Apple starebbe invece pensando di sfruttare le tecnologie “under-display” per le ottiche dei suoi smartphone, per eliminare del tutto il top notch senza sacrificare la qualità fotografica del selfie o peggiorare il riconoscimento facciale tramite Face ID. Diversi produttori Android hanno già intrapreso questa strada – virali sono divenuti gli esempi di Xiaomi e Oppo – e Cupertino potrebbe optare per tecnologie del tutto analoghe.
L’analisi riportata dal China Times ipotizza anche una timeline di lancio. Nel 2020 potrebbero giungere sul mercato due classici iPhone, affiancati da un modello notch-less, mentre nel 2021 tutte le versioni dello smartphone dovrebbero incorporare fotocamere sotto al display.
Come facile intuire, dalle parti di Cupertino non è giunta alcuna conferma sulle indiscrezioni pubblicate dalla stampa asiatica: la società non è solita parlare delle sue strategie prima dell’effettiva presentazione dei nuovi device.